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多晶硅薄膜的膜厚和折射率分析技術
多晶硅薄膜的膜厚和折射率分析技術
F20可以在1秒左右輕松測量透明或半透明薄膜的膜厚、折射率和消光系數(shù)。
它還支持多點在線測量，并支持RS-232C和TCP/IP等外部通信，因此可以從PLC或上位機控制。
主要特點
支持廣泛的薄膜厚度（1 nm 至 250 μm）
支持寬波長范圍（190nm 至 1700nm）
強大的膜厚分析
光學常數(shù)分析（折射率/消光系數(shù)）
緊湊型外殼
支持在線測量
主要用途
| 平板 | 單元間隙、聚酰亞胺、ITO、AR薄膜、 各種光學薄膜等 |
|---|---|
| 半導體 | 抗蝕劑、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等 |
| 光學鍍膜 | 減反射膜、硬涂層等 |
| 薄膜太陽能電池 | CdTe、CIGS、非晶硅等 |
| 砷化鋁鎵（AlGaAs）、磷化鎵（GaP）等 | |
| 醫(yī)療保健 | 鈍化、藥物涂層等 |
測量示例
可以測量從半導體等精密加工產(chǎn)品到眼鏡和汽車零件的各種樣品的膜厚。
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